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一种优化的硅烷工艺在青铜器保护中的应用

孙从征 , 刘金平 , 高秀丽

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2017.06.009

青铜器原有的硅烷保护工艺存在抗低温性能差的问题,通过三种硅烷处理工艺的对比,新开发了一种优化的氨基硅烷保护工艺,配合合理的预处理工艺,可有效解决低温环境中膜层开裂的问题,延长保护寿命2~4倍,可广泛适用于全国各地的气候环境.

关键词: 青铜器 , 硅烷 , 氨基硅烷 , 文物保护 , 金属表面处理

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